仪器中文名称：

光刻机

规格型号：

H94-25C

仪器英文名称：

Photoetching Machine

单位资产管理号：

20121989

所属类别：

设备

仪器分类编码：

05080105

先进程度：

国内领先

购置日期：

2012.8.1

制造厂商：

四川南光真空科技有限公司

国    别：

中国

供 货 商：

（可选填）

维 修 站：

（可选填）

维修站地址：

（可选填）

维修站电话：

（可选填）

原值金额(万元)：

24.97

币   种：

人民币

外币折合成当时的人民币值(万元):

24.97

其中：

中央财政资助人民币值（万元）

地方财政资助人民币值（万元）

其他人民币值（万元）

主要技术指标

曝光类型：单面

曝光面积：≥φ115mm

曝光不均匀性：≤±3%

曝光强度：≥20mw/cm2

曝光分辨率：1μm

曝光模式：可选择一次曝光或套刻曝光模式

扫描范围：X:±40mm   Y:±35mm

对准范围：X、Y粗调±3mm、细调±0.3mm Q粗调±15°、细调±3°

对准精度：1μm

分离量：0～50μm可调

接触－分离漂移：≤1μm

密着曝光方式：密着曝光可实现硬接触、 软接触和微力接触曝光；

找平机构：三点式自动找平；

显微系统：双视场CCD系统，显微镜45X～ 300X连续变倍（物镜1.125X～7.5X），双 物镜距离可调范围：11mm～100 mm，计算机图像处理系统，19″液晶监视器；

掩模版尺寸：2.5″×2.5″(或3″×3″) 4″×4″、5″×5″

基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″

基片厚度：≤5 mm

曝光灯功率：直流350W

曝光定时：0～999.9秒可调

对准方式：切斯曼对准机构

曝光头转位：气动

电源：单相AC220V 50Hz 功耗≤1kW

洁净空气压力：≥0.4Mpa

真空度：-0.07MPa～-0.09Mpa

尺寸： 920×680×1600(L×W×H)mm；

主要附件

功能/应用范围

微电子光刻工艺

主要用途：

1.√科研 2.教学 3.行政执法技术保障   4.公共技术服务 5.生产控制 6.其他

服务领域：

（可多选）01.电子通讯 02.生物医药  03.化工 04.环保能源 05.轻工食品    06.农业  07.计算机及网络    08.新材料  09.机械冶金    10.其他_ ___01__          

所在研发基地：

每年可供对外服务(平均机时/年)：

上年对外服务（机时）

每小时占用费(元):

收费标准（元/样品）

面议

接待时间（工作日）：

周一至周五

仪器所在部门：

电子工程学院

姓名

学历

专业

职称

技术等级

有何擅长

艾春鹏

硕士

电子科学与技术（微电子）

助理实验师

艾春鹏

硕士

仪器操作应用人员：

共 1 人（至少填写一个）

仪器设施联系人信息

姓名

艾春鹏

通讯地址

哈市南岗区学府路74号

邮编

150080

电话

13766812205

传真

E-mail

Aicp@foxmail.com

技术特色

服务实例

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