脉冲激光沉积系统（电子工程学院）

仪器中文名称*

脉冲激光沉积系统

规格型号*

PLD-450B

仪器英文名称*

Pulsed Laser Deposition，PLD

单位资产管理号*

20120160、20120398

仪器分类编码*

购置日期*

2010-12

仪器所在地区*

        黑龙江      省      哈尔滨              市

是否进口*

■进口   ■国产  

生产国别*

中国、美国

制造厂商*

沈阳中科仪器、俄罗斯optosystems公司

原值金额(万元)*

113.43

币   种*

人民币

外币折合成当时的人民币值(万元)*

拨款情况*

1.政府拨款

中央财政（万元）

省财政（万元）

113.43

市、区财政（万元）

2、自筹

3、其他

主要技术指标*

激光器部分：

   Wavelength: 248nm

  Pulse Energy ≥400mJ

  Average Power: no less than 40W

  Max. Rep. Rate:100Hz

  Pulse Duration: 20 ns

  Pulse-to-Pulse Stability(1 Sigma):no larger than   2%

  Beam Dimensions(V×H): 6×21 mm

  Beam Divergence(V×H):   1.5×4.5 mrad

主要附件*

激光器部分：

F2/Kr/Ne & Regulator：Premix Gases F2/Kr/Ne

He & Regulator：Domestic 99.999% Helium

External water chiller

Optics set for CL-7100KrF

功能/应用范围*

电子工程学院大型仪器设备“脉冲激光沉积系统”由两台仪器设备组成，一台为“脉冲激光沉积系统”资产编号20120398，购置时间2010年12月，价值67.70万元，属进口设备，生产厂商为俄罗斯Optosystems公司；另一台为“脉冲激光沉积装置”，资产编号20120160，购置时间2010年12月，价值45.73万元，国产设备，生产厂家为中国科学院沈阳科学仪器研制中心。

真空系统主要用于实现激光沉积所需的低真空环境；准分子激光器作为脉冲激光沉积系统的重要组成部分，其主要功能是将激光瞬间聚焦于靶材上一个较小面积，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在温度较低的基底上沉积，从而形成薄膜。

利用本系统可以制备金属、半导体、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各种物质薄膜，还包括一些难以合成的材料膜，如金刚石、立方氮化物膜等；

仪器服务内容*

制备各种不同材料的薄膜

仪器使用状态*

□正常使用     ■限制范围使用      □维修   （单选）

服务产业领域*

新能源产业、新材料产业、电子信息产业

服务行业类别*

金属材料、无机非金属材料、纳米及超细材料、其他材料、有色金属制品、非金属矿物制品

所在研发基地类型*

□国家级重点实验室    □省部共建重点实验室   ■省级重点实验室

□国家级工程技术研究中心    □省级工程技术研究中心   □企业技术研发中心

□其他    □无     （单选）

所在研发基地名称*

纳米元器件实验室

接待时间（工作日）*

周一至周五，

需提前预约

收费标准（元）*

500元/标准时

仪器所在部门*

黑龙江大学电子工程学院

仪器设施联系人信息

姓名*

窦雁巍

通讯地址*

黑龙江大学130信箱

邮编*

150080

电话*

13804609375

传真

E-mail*

Douyanwei@hlju.edu.cn

仪器图片*